實(shí)驗(yàn)室化驗(yàn)純水設(shè)備-濟(jì)南純水設(shè)備

實(shí)驗(yàn)室化驗(yàn)純水設(shè)備

更新：2020/3/11 17:00:32??????點(diǎn)擊：

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產(chǎn)品介紹

【濟(jì)南純水設(shè)備 http://m.jz-zz.com】實(shí)驗(yàn)室超純水設(shè)備是實(shí)驗(yàn)室中用于制出實(shí)驗(yàn)所用超純水的設(shè)備。

由于不同的實(shí)驗(yàn)對(duì)水質(zhì)要求不同，所以實(shí)驗(yàn)室超純水設(shè)備也應(yīng)該具備產(chǎn)出多種不同規(guī)格的純水或超純水純水設(shè)備。

純水制備系統(tǒng)以自來(lái)水作為進(jìn)水，制備足量符合實(shí)驗(yàn)室所需特定水質(zhì)的純水，是實(shí)驗(yàn)室整體純水系統(tǒng)的起點(diǎn)。實(shí)驗(yàn)室每天純水的用量有可能從幾升到幾千升不等。在設(shè)計(jì)之處首先應(yīng)該考慮的是：確定每個(gè)用戶和每臺(tái)儀器每天的用水量和所需純水的水質(zhì)，以及用水規(guī)律。而后純水設(shè)計(jì)部門便可以據(jù)此計(jì)算出整個(gè)實(shí)驗(yàn)室每天總的用水量以及高峰用水量。

超純水設(shè)備適用于電子行業(yè)生產(chǎn)如單晶硅、半導(dǎo)體、集成電路塊、IC芯片封裝、顯像管、玻殼、液晶顯示器、印刷電路版、光學(xué)、光電、熱電廠、冶金、化工、輕工、汽車制造、制藥、醫(yī)療衛(wèi)生等制造工業(yè)用純水制造。

醫(yī)藥行業(yè)的大輸液、醫(yī)藥制劑、檢驗(yàn)分析、血液透析、制藥、制劑工藝用水制造。

還可用于涂裝行業(yè)如電鍍、電池生產(chǎn)、電泳漆生產(chǎn)線;汽車、電器、建材產(chǎn)品表面清洗、涂裝;玻璃、塑料表面鍍膜等?；ば袠I(yè)用水制造如化學(xué)制藥、紡織印染、精細(xì)化工、化妝品、墨盒、日化產(chǎn)品等。

實(shí)驗(yàn)超純水設(shè)備適用于工廠、大學(xué)及公司的生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)室、化學(xué)實(shí)驗(yàn)室、物理實(shí)驗(yàn)室、中試車間、醫(yī)院生化室大部分實(shí)驗(yàn)室等。

實(shí)驗(yàn)室超純水設(shè)備的兩種經(jīng)典工藝流程:

1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象（≥18MΩ.CM）（傳統(tǒng)工藝）

2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象（≥18MΩ.CM）（最新工藝）

水質(zhì)參數(shù)

	Basic	Mid	High
超純水電阻率	18.25MΩNaN	18.25MΩNaN	18.25MΩNaN
純水電導(dǎo)率	1-5μs/cm	1-5μs/cm	1-5μs/cm
總有機(jī)碳(TOC)(經(jīng)DP——RO)	<10ppb	<5ppb	<1-3ppb
細(xì)菌	<1CFU/ml	<1CFU/ml	<0.1CFU/ml
細(xì)菌內(nèi)毒素	-	-	<0.001EU/ml
顆粒物質(zhì)（0.2μm）	<1個(gè)/ml	<1個(gè)/ml	<1個(gè)/ml
無(wú)機(jī)物離子去除率	≥99.5%	≥99.5%	≥99.5%
重金屬離子	≤0.1ppb	≤0.1ppb	≤0.1ppb
硅去除率	>99%	>99%	>99%

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